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光敏高分子材料是典型的功能性高分子材料之一。它的特征是能夠吸收光能，在光能的作用下，其分子內或分子間發生結構變化。

光敏高分子材料最初主要用于印刷行業的照相制版，即所謂的光刻膠(Phstoresist)。1954年美國伊思曼·柯達公司首先推出了以肉桂酸與聚乙烯醇加成而成的感光材料，其后不久該公司又進一步推出了環化天然橡膠為原料，以二疊氮化合物引發交聯反應的負片型光刻膠。鑒于這類材料品質不夠穩定，不適于分辨力要求特別高的精密光刻加工之用(諸如一些精細的印刷電路特別是在硅片上進行線路腐蝕加工用的光刻膠)，于是轉向采用以合成聚異戊二烯、聚丁二烯的環化產物為原料的光刻膠，現在這種光刻膠已成為發展集成電路、半導體元件、金屬表而處理、玻璃及陶餐等材料的精密酸蝕加工等的不可缺少的材料。

此外，吸收光能而發生化學或結構變化后，仍在一定程度上保持彈性體性能的光敏橡膠材料，作為印刷行業中的撓性凸版、電子儀表等行業中的灌封材料、膠粘劑等，也具有很大的實用價值。

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